世界级存储器基地落户武汉 总投资达240亿美元
发布时间：2016-03-28
来源：中国新闻网
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3月28日，总投资240亿美元(约1600亿元人民币)的中国国 家级存储器基地项目，28日在武汉东湖高新区开工建设。
当天开建的中国国 家级存储器基地项目，位于武汉东湖高新区的光谷智能制造产业园，建设内容包括芯片制造、产业链配套等，将在5年内投资240亿美元，预计到2020年形成月产能30万片的生产规模，到2030年建成每月100万片的产能，进而成为世 界 级的存储器基地。
该项目建成后，可以带动设计、封装、制造、应用等芯片产业相关环节的发展，集合已经在武汉东湖高新区形成规模的显示产业(天马、华星光电)、智能终端(华为、联想、富士康)等产业，打造万亿级的芯片-显示-智能终端全产业链生态体系，将成为中国乃至全球最密集的电子信息产业基地。
2006年，为推动中国集成电路产业发展，加速存储器基地项目建设，湖北省、武汉市和东湖高新区投资100亿元人民币建设了武汉新芯12英寸晶圆制造项目。经过10年的打造，武汉新芯已成为中国唯 一以存储器为主的集成电路制造企业。
在此基础上，湖北省、武汉市、东湖高新区共同设立了500亿元人民币湖北集成电路产业专属投资基金，用于存储器生产研发以及产业链上下游项目建设。目前，武汉东湖高新区初步形成了涵盖设计、制造、封装等比较完整的产业链，成为中国重要的集成电路产业聚集区之一。
